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功率半導體最早出現在1950年代,1956年美國貝爾實驗室發明了晶閘管,并在60年代得到廣泛應用;1980年后逐漸發展出功率各種新型晶閘管,單極性MOSFET,雙極性MOSFET;90年代研發出IGBT,此后逐步出現功率模塊和集成功率器件。
目前功率器件主要以 Si (硅)基材料為主,包括 SOI 高壓集成電路,隨著第三代半導體的發展,以SiC和GaN為代表的寬禁帶半導體材料開始成為功率半導體的新興材料。